[发明专利]用于等离子体蚀刻机器的气体分布电极有效
| 申请号： | 200510108808.2 | 申请日： | 2005-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN1758825A | 公开（公告）日： | 2006-04-12 |
| 发明（设计）人： | 洪健雄;曾崇豪;陈滢如;王亮为 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;H05H1/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种用于等离子体蚀刻机器的气体分布(gasdistribution)电极，包括多个设置于该气体分布电极第一表面的凹部，以及多个设置于该些凹部周边的通孔。每一该些通孔由该气体分布电极的第一表面延伸至相对应的第二表面。本发明还涉及采用上述气体分布电极的等离子体蚀刻机器。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 蚀刻 机器 气体 分布 电极 | ||
【主权项】：
1.一种气体分布电极，适用于一等离子体蚀刻机器中，该气体分布电极具有相对应的第一表面与第二表面，该气体分布电极包括：多个凹部，被设置于该第一表面；以及多个通孔，设置于该些凹部的周边，且每一该些通孔由该第一表面延伸至该第二表面。
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