[发明专利]电解抛光液和其平坦化金属层的方法无效
| 申请号： | 200510109406.4 | 申请日： | 2005-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN1952221A | 公开（公告）日： | 2007-04-25 |
| 发明（设计）人： | 谢嘉民;刘书宏;戴宝通 | 申请（专利权）人： | 伊默克化学科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/22 | 分类号： | C25F3/22;H01L21/3063;H01L21/465 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 刘国伟;王允方 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种含醇基添加剂的电解抛光液和其平坦化金属层的方法。所述电解抛光液包含一含醇基添加剂和一酸溶液。优选地，所述含醇基添加剂可为甘油、甲醇或乙醇，所述酸溶液包含磷酸和一有机酸添加剂，其中所述有机酸添加剂可为乙酸或柠檬酸。本发明利用所述含醇基添加剂在所述金属层表面形成一扩散抑制层以降低所述金属层的表面的抛光速率，但所述金属层的凹部和凸部在某浓度范围时都呈现相当程度的抛光抑制。在电解抛光液中添加有机酸添加剂会导致所述金属层的凸部和凹部有机酸浓度不同，因而使得凸部和凹部的抛光速率呈现更大差异。 | ||
| 搜索关键词： | 电解 抛光 平坦 金属 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电解抛光液，包含一酸溶液和一含醇基添加剂，其中所述含醇基添加剂在一待电解抛光层上的接触角小于所述酸溶液的接触角。
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