[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 200510113235.2 | 申请日： | 2005-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN1746775A | 公开（公告）日： | 2006-03-15 |
| 发明（设计）人： | T·P·M·卡迪;J·H·W·贾科布斯;N·坦卡特;E·R·鲁普斯特拉;A·L·H·J·范米尔;J·J·S·M·梅坦斯;C·G·M·德莫;M·J·E·H·米特詹斯;A·J·范德内特;J·J·奥坦斯;J·A·夸伊达克斯;M·E·鲁曼－休斯肯;M·K·斯塔温加;P·A·J·廷内曼斯;M·C·M·维哈根;J·J·L·H·维斯帕;F·E·德荣格;K·戈尔曼;B·门奇奇科夫;H·博姆;S·尼蒂亚诺夫;R·莫尔曼;M·F·P·斯米特斯;B·L·P·小恩德马克;F·J·J·詹斯森;M·里伊彭 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳;王忠忠 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻设备，包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；将已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和所述衬底之间的间隙基本包含所述液体的密封构件；和控制由所述液体供应系统提供的液体蒸发的净速率的液体蒸发控制器。
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