[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效

专利信息
申请号: 200510114138.5 申请日: 2005-10-18
公开(公告)号: CN1770018A 公开(公告)日: 2006-05-10
发明(设计)人: J·J·S·M·梅坦斯;S·N·L·多德斯;R·F·德格拉夫;C·A·胡根达姆;A·J·范德内特;F·J·H·M·特尼斯森;P·A·J·廷内曼斯;M·C·M·维哈根;J·J·L·H·维斯帕;E·A·M·范戈佩 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 肖春京
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 光刻装置和器件制造方法公开了一种光刻装置,其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统,配置成去除液体和气体混合物的出口,所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙,配置成通过所述出口排出混合物的排空系统,该排空系统包括布置成把混合物中的液体和气体分开的分离罐和分离罐压力控制器,该分离罐压力控制器与分离罐的非液体填充区相连,并配置成使非液体填充区保持稳定的压力。
搜索关键词: 光刻 装置 器件 制造 方法
【主权项】:
1.一种光刻装置,包括:配置成调节辐射光束的照射器;配置成保持构图部件的支座,该构图部件配置成给辐射光束在其截面赋予图案,以便形成带图案的辐射光束;配置成保持基底的基底台;配置成把带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统;配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统,该液体供给系统包括配置成把液体至少部分限制在所述空间中的液体限制结构;配置成去除液体和气体混合物的出口,所述液体和气体混合物通过液体限制结构和基底之间的间隙;以及配置成通过所述出口排出混合物的排空系统,该排空系统包括布置成把混合物中的液体和气体分开的分离罐和分离罐压力控制器,该分离罐压力控制器与分离罐的非液体填充区相连,并配置成使非液体填充区保持稳定的压力。
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