[发明专利]二氧化硅涂膜形成用组合物、二氧化硅涂膜及其制造方法、以及电子部件无效
| 申请号： | 200510117095.6 | 申请日： | 2003-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN1769349A | 公开（公告）日： | 2006-05-10 |
| 发明（设计）人： | 樱井治彰;阿部浩一;榎本和宏;野部茂 | 申请（专利权）人： | 日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | C08L83/04 | 分类号： | C08L83/04;H01L21/31 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 钟晶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种二氧化硅涂膜形成用组合物，含有作为(a)组分的烷氧基硅烷等硅氧烷树脂，作为(b)组分的可以溶解该硅氧烷树脂的醇等溶剂，作为(c)组分的铵盐等以及作为(d)组分的受热分解挥发性化合物，具有如下固化性能，在150℃/3分的加热处理下得到的涂膜的应力为10MPa，而且通过最终固化得到的二氧化硅涂膜的比电容率小于3.0。本发明的二氧化硅涂膜形成用组合物，在形成具有低电容率、粘结性的同时可以形成具有很好机械强度的二氧化硅涂膜。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 形成 组合 及其 制造 方法 以及 电子 部件 | ||
【主权项】：
1.一种二氧化硅类涂膜形成用组合物，其具有：(a)组分：加水分解缩合以下列通式(1)表示的化合物而得到的硅氧烷树脂，R1nSiX4-n……(1)式中，R1为H原子或者F原子，或者含B原子、N原子、Al原子、P原子、Si原子、Ge原子或者Ti原子的基团，或者碳原子数在1～20的有机基团，X为加水分解性基团，n为0～2的整数，n为2时，各R1可以相同也可以不同，n为0～2时，各X可以相同也可以不同；和(b)组分：可以溶解(a)组分的溶剂，所述(a)组分，相对于1摩尔硅原子，从H原子、F原子、B原子、N原子、Al原子、P原子、Si原子、Ge原子、Ti原子以及C原子中选择的至少一种的原子的总含量比例小于等于0.65摩尔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立化成工业株式会社，未经日立化成工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510117095.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于喷射挥发性组合物的系统
- 下一篇：纳米结构的金属－碳复合材料及其制备方法
