[发明专利]光刻设备及器件制造方法

摘要

一种光刻设备包括构成为支撑基底的基底支撑件，和构造为将带图案的辐射束投射到基底的靶部分上的投影系统。该基底支撑件布置为沿着基底的随后定靶的靶部分的预定的轨迹移动基底。该基底支撑件包括输送管构造，用于给基底提供热稳定性。该输送管构造布置为在支撑件中输送热稳定介质，以及经由支撑基底的前面定靶的部分的基底支撑件的部分将介质充分输送离开支撑靶部分的基底支撑件的一部分，使得保持随后定靶的靶部分热稳定。

主权项

1.一种光刻设备，其包括：构造为调节辐射束的照射系统；构成为支撑构图装置的构图装置支撑件，该构图装置能够给辐射束在其截面中赋予图案，以形成带图案的辐射束；构成为支撑基底的基底支撑件；以及构造为将带图案的辐射束投射到基底的靶部分上的投影系统，所述基底支撑件布置为沿着基底的随后定靶的靶部分的预定的轨迹移动基底，其中，所述基底支撑件包括输送管构造，用于给所述基底提供热稳定性，所述输送管构造布置为在所述支撑件中输送热稳定介质，以及经由支撑基底的前面定靶的部分的所述基底支撑件的部分将介质充分输送离开支撑所述靶部分的所述基底支撑件的一部分，使得保持随后定靶的靶部分热稳定。