[发明专利]电磁聚焦装置及使用该装置的电子束光刻系统无效
| 申请号： | 200510126974.5 | 申请日： | 2005-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN1794092A | 公开（公告）日： | 2006-06-28 |
| 发明（设计）人： | 文昌郁;金东洙;宋命坤;李升运;吴润相 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒;魏晓刚 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种电磁聚焦装置和使用该电磁聚焦装置的电子束光刻系统，其能够通过移动极片的中心部分调节电磁场的均匀性。该电磁聚焦装置控制从电子束光刻系统的电子束发射器产生的电子束的路径。在该电磁聚焦装置中，磁场生成器形成真空室中的磁场，该真空室围绕出晶片安装于其中的空间。上和下极片分别穿透该真空室的顶和底壁，彼此面对地安装，且将形成在磁场生成器处的磁场施加到该真空室中。真空室中磁场的均匀性可以通过该上和下极片相对于该真空室的垂直移动来调节。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁 聚焦 装置 使用 电子束光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种电磁聚焦装置，用于控制从电子束光刻系统的电子束发射器产生的电子束的路径，该装置包括：磁场生成器，其形成真空室中的磁场，所述真空室围绕出晶片安装于其中的空间；以及上和下极片，其分别穿透该真空室的顶和底壁，被安装为彼此面对，且将形成在该磁场生成器处的磁场施加到该真空室中；其中该真空室中磁场的均匀性通过该上和下极片相对于该真空室的垂直移动来调节。
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