[发明专利]光刻装置以及器件制造方法无效
| 申请号： | 200510128823.3 | 申请日： | 2005-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN1782886A | 公开（公告）日： | 2006-06-07 |
| 发明（设计）人： | J·J·M·巴塞曼斯;S·N·L·多德斯;C·A·霍根达姆;J·J·S·M·梅坦斯;J·C·H·穆肯斯;B·斯特里克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 赵辛 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种包括液体供给系统的浸入式光刻装置，该液体供给系统具有设置成可将液体供给到光刻装置的投影系统与衬底之间的空间中的入口，以及设置成可去除至少部分液体的出口，该液体供给系统设置成可使入口、出口或这两者围绕基本上垂直于衬底的曝光面的轴线旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影装置，包括：设置成可调节辐射光束的照明系统；设置成可保持图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置设置成可赋予光束的横截面某一图案；设置成可保持衬底的衬底台；设置成可将所述图案化的辐射光束投射到所述衬底的目标部分上的投影系统；和液体供给系统，其包括设置成可将液体供给到所述投影系统与所述衬底之间的空间中的入口，以及设置成可去除至少部分所述液体的出口，所述液体供给系统设置成可使所述入口、所述出口或这两者围绕基本上垂直于所述衬底的曝光面的轴线而旋转。
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