[发明专利]光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 200510134132.4 | 申请日： | 2005-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN1797214A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | A·J·布里克;J·J·M·巴塞曼斯;M·M·T·M·迪伊里奇斯;C·瓦格纳;L·赖齐科夫;S·Y·斯米诺夫;K·Z·特鲁斯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 李亚非;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种系统和方法用于引导辐射束以非垂直地照射用于构图该辐射束的单独可控元件的构图阵列。这些单独可控元件可以改变该辐射束的远心。可以通过凹面镜或使用在这些单独可控元件的物场中放置的折叠式反射镜来将该辐射束投射到这些单独可控元件上。可替换地，这些单独可控元件可以改变该辐射束的光轴。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻设备，包括：照明系统，其调整辐射束；构图阵列，其包括单独可控元件以构图；以及投影系统，其将该构图辐射束投射在衬底的目标部分上，其中布置该辐射束以便非垂直地照射该构图阵列。
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