[实用新型]电感耦合线圈及其电感耦合等离子体装置无效

专利信息
申请号: 200520001647.2 申请日: 2005-01-27
公开(公告)号: CN2785105Y 公开(公告)日: 2006-05-31
发明(设计)人: 申浩南 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: H01F5/00 分类号: H01F5/00;H01F38/14;H05H1/46;H05H1/50;H01L21/3065
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 代理人: 郑立明
地址: 100016北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型所述的电感耦合线圈及其电感耦合等离子体装置,包括反应腔室、石英体,电感耦合线圈,所述电感耦合线圈由两个或两个以上组成;电感耦合线圈在空间堆叠式分布;电感耦合线圈的输入端和输出端分别与电源相连。改变电感耦合线圈的匝数和形状,通过两个或两个以上的电感耦合线圈的组合,达到控制反应腔体中等离子体分布均匀的要求,使晶片表面发生的化学反应速度差异较小,刻蚀速率均匀,提高刻蚀晶片的质量。
搜索关键词: 电感 耦合 线圈 及其 等离子体 装置
【主权项】:
1、一种电感耦合线圈,其特征在于由两个或两个以上的单组电感耦合线圈组成;各组单电感耦合线圈在空间堆叠式分布。
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