[发明专利]气体制造设备、气体供给容器及电子器件制造用气体无效
| 申请号： | 200580007844.8 | 申请日： | 2005-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN1930415A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | 大见忠弘;白井泰雪;加藤丈佳;田中公章;中村昌洋;田中克知 | 申请（专利权）人： | 大见忠弘;日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | F17C1/10 | 分类号： | F17C1/10;C23C4/10;C23C8/16;C23C8/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 孙秀武;吴娟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种处理原料气体的气体制造设备，并防止由气体供给容器引起的原料气体的污染。反应性高的原料气体，特别是氟化烃的气体制造设备和供给容器中的气体接触表面的表面粗糙度，按中心平均粗糙度Ra计为小于或等于1μm。优选在控制了表面粗糙度的气体接触表面形成氧化铬、氧化铝、氧化钇、氧化镁等的氧化性钝化膜。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 制造 设备 供给 容器 电子器件 | ||
【主权项】：
1.气体制造设备，其特征在于，电子器件制造用气体接触的部分的表面粗糙度，以中心平均粗糙度Ra计，是小于或等于1μm。
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