[发明专利]间苯二酚杯芳烃化合物、光致抗蚀剂基材及其组合物无效
| 申请号： | 200580010812.3 | 申请日： | 2005-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN1938259A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | 石井宏寿;大和田贵纪;芝崎祐二;上田充 | 申请（专利权）人： | 出光兴产株式会社 |
| 主分类号： | C07C67/31 | 分类号： | C07C67/31;C07C69/712;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种由下述通式(1)表示的间苯二酚杯芳烃化合物：(见图)[式中，R表示2－甲基－2－金刚烷氧基羰基甲基。]上述通式(I)所示的间苯二酚杯芳烃化合物作为光致抗蚀剂基材、特别是作为基于远紫外线或电子射线的超微细加工时使用的光致抗蚀剂基材是有用的。 | ||
| 搜索关键词： | 间苯二酚杯 芳烃 化合物 光致抗蚀剂 基材 及其 组合 | ||
【主权项】：
1.一种下述通式(1)所示的间苯二酚杯芳烃化合物：![]()
[式中，R相互独立地为从氢原子、1-四氢吡喃基、1-四氢呋喃基、![]()
(n可以相同或不同地为1～50的整数)所示的有机基团中选出的1种以上的有机基团(其中除去R只为选自氢原子、1-四氢吡喃基、1-四氢呋喃基中的基团的情况)]。
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