[发明专利]纳米光刻术和微光刻术用物质组合物有效
| 申请号： | 200580012162.6 | 申请日： | 2005-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN101084468A | 公开（公告）日： | 2007-12-05 |
| 发明（设计）人： | P－F·傅;L·J·郭;X·陈 | 申请（专利权）人： | 道康宁公司;密歇根大学董事会 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/038;G03F7/075 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民;路小龙 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 物质组合物，其被用作液体抗蚀剂，包括含有单体部分和至少一个阳离子可聚合官能团的第一组分，和与该第一组分反应且含有至少三个阳离子可聚合官能团的交联剂。该物质组合物也包括阳离子光敏引发剂。在暴露于紫外光之后，该物质组合物通过固化而交联，形成固化的抗蚀膜，该固化的抗蚀膜为所述第一组分、交联剂和阳离子光敏引发剂的反应产物。一种制品包括基板层和在该基板层上由该物质组合物形成的抗蚀层。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 光刻 微光 刻术用 物质 组合 | ||
【主权项】：
1.物质组合物，包括：第一组分，其含有单体部分和至少一个阳离子可聚合官能团；交联剂，其与所述第一组分反应，且含有至少三个阳离子可聚合官能团；和阳离子光敏引发剂。
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