[发明专利]判断光刻系统的照射器的照射强度轮廓的装置及方法有效
| 申请号： | 200580013170.2 | 申请日： | 2005-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN1997941A | 公开（公告）日： | 2007-07-11 |
| 发明（设计）人： | C·A·斯彭斯;T·P·卢坎奇;L·卡波迪耶奇;J·赖斯;S·N·麦高恩 | 申请（专利权）人： | 先进微装置公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 戈泊;程伟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种产生照射器(14)的照射强度轮廓的系统(30)及方法，该照射器(14)形成投射光刻系统(10)的一部分。投射由该照射器产生的辐射至具有多个开孔(34)的照射轮廓掩膜(32)上，使得每个开孔都递送该辐射的特定部分。检测辐射的每个特定部分的强度，然后组合而形成照射强度轮廓。 | ||
| 搜索关键词： | 判断 光刻 系统 照射 强度 轮廓 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种判定投射光刻系统(10)照射强度轮廓的方法，该光刻系统(10)横跨于对应所期望晶片(12)曝光位置的平面，该方法包括：放置照射轮廓掩膜(32)于由照射器(14)定义的照射场中，该照射轮廓掩膜具有多个开孔(34)，而且每个开孔都供由该照射器所输出的辐射特定部分穿过；放置传感器阵列(40)于该照射场中，以分别检测辐射的各特定部分；以及依据该传感器阵列的检测结果，建构该照射强度轮廓。
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