[发明专利]用于非线性光学器件的方法和结构无效
申请号: | 200580015804.8 | 申请日: | 2005-04-14 |
公开(公告)号: | CN101124163A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | T·阿莱科尔;D·A·凯兹勒;N·叶 | 申请(专利权)人: | 深奥光子学股份有限公司;俄勒冈州由俄勒冈州立大学代表州高等教育委员会行使 |
主分类号: | C01F17/00 | 分类号: | C01F17/00;C01F7/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 陈哲锋 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种用于在等于和低于350纳米下使用的非线性光学器件的复合物。所述复合物包括用于非线性光学器件的材料,所述材料包含AXM(1-X)Al3B4O12。x大于或等于0,且小于或等于0.1,A选自Sc、Y、La、Yb和Lu,M选自Sc、Y、La、Yb和Lu。该复合物不含至少为1000ppm的含钼杂质。 | ||
搜索关键词: | 用于 非线性 光学 器件 方法 结构 | ||
【主权项】:
1.一种用于在等于和低于350纳米下应用的非线性光学器件的复合物,该复合物包括用于非线性光学器件的包含YAl3B4O12的材料;所述复合物不含至少为1000ppm的含钼杂质。
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