[发明专利]用于非线性光学器件的方法和结构无效

专利信息
申请号: 200580015804.8 申请日: 2005-04-14
公开(公告)号: CN101124163A 公开(公告)日: 2008-02-13
发明(设计)人: T·阿莱科尔;D·A·凯兹勒;N·叶 申请(专利权)人: 深奥光子学股份有限公司;俄勒冈州由俄勒冈州立大学代表州高等教育委员会行使
主分类号: C01F17/00 分类号: C01F17/00;C01F7/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 陈哲锋
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于在等于和低于350纳米下使用的非线性光学器件的复合物。所述复合物包括用于非线性光学器件的材料,所述材料包含AXM(1-X)Al3B4O12。x大于或等于0,且小于或等于0.1,A选自Sc、Y、La、Yb和Lu,M选自Sc、Y、La、Yb和Lu。该复合物不含至少为1000ppm的含钼杂质。
搜索关键词: 用于 非线性 光学 器件 方法 结构
【主权项】:
1.一种用于在等于和低于350纳米下应用的非线性光学器件的复合物,该复合物包括用于非线性光学器件的包含YAl3B4O12的材料;所述复合物不含至少为1000ppm的含钼杂质。
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