[发明专利]成膜装置以及成膜方法有效
| 申请号： | 200580016473.X | 申请日： | 2005-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN1957106A | 公开（公告）日： | 2007-05-02 |
| 发明（设计）人： | 谷典明;森中泰三;铃木寿弘;松本昌弘 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;G02B5/30;H01L21/285 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 曲瑞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是在层叠薄膜的光学薄膜中形成具有接近设计值的光学特性的光学薄膜。为此，在真空室(2)内，配备保持基板(4)的旋转鼓(3)、用于在基板(4)的被成膜面上形成金属膜的Si靶(22)、Ta靶(23)、通过等离子使金属膜与反应气体反应的ECR反应室(30)。在成膜装置(51)中，设置有对被成膜面照射离子束促进形成于被成膜面的膜的反应的离子枪(11)，反复进行金属膜的形成、气体反应以及基于离子束的反应促进。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，其特征在于，在可以进行真空排气的真空室内具有：保持基板的保持部件；在基板上形成薄膜的成膜部件；通过等离子使上述薄膜与反应气体进行反应的反应部件；以及向上述基板照射离子束的离子枪，通过上述离子束的照射，进行上述薄膜与上述反应气体的反应促进以及上述薄膜的部分蚀刻其中一方或者两方，形成经过层叠的薄膜。
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