[发明专利]用反射或透射红外光来检查微结构的设备和方法无效
| 申请号： | 200580017989.6 | 申请日： | 2005-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN101019061A | 公开（公告）日： | 2007-08-15 |
| 发明（设计）人： | 威·葛瑞夫;蓝伯特·丹纳 | 申请（专利权）人： | 比斯泰克半导体系统股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B21/08 | 分类号： | G02B21/08;G01N21/95 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁 |
| 地址： | 德国维*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 先前所使用的检查装置和方法通常使用已反射的可见光或UV光来操作以分析(例如)晶片(38)的微结构样品。本发明的目的在于增加所述装置的可能的用途，即，尤其是为了表示例如可在两侧上均结构化的晶片的结构细节，所述结构细节在VIS或UV中是不可见的，因为涂层或中间材料是不透明的。通过在形成显著地改进IR图像中与其它对象之间的对比度的透照(52)时使用IR光作为反射光来达成所述目的，因而允许样品能同时以反射或透射的IR光和以反射的可见光来表示。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 透射 红外光 检查 微结构 设备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于检查微结构样品的设备，所述微结构样品例如晶片(28)，所述设备包括用于支撑所述例如晶片(28)的样品的样品支撑件(26)和用于在入射光模式中照射所述样品的入射光照射(50)，其特征在于另外提供透射光照射(52)以用于在透射光模式中照射所述样品。
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