[发明专利]用于改进显微蚀刻的对齐和覆盖的系统和方法无效
| 申请号： | 200580018208.5 | 申请日： | 2005-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN101379435A | 公开（公告）日： | 2009-03-04 |
| 发明（设计）人： | A·谢尔拉;S·V·斯利尼瓦森;K·阿杜斯米利 | 申请（专利权）人： | 得克萨斯州大学系统董事会 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陈炜 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于确定要施加于衬底的力以使衬底变形、并校正覆盖未对齐的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改进 显微 蚀刻 对齐 覆盖 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于确定布图器件最小化其上所记录的图案与参考图案之间的尺寸变化所用的变形参数的方法，所述方法包括：比较所述记录图案的特征相对于所述参考图案的相应特征之间的空间变化；以及确定施加于所述布图器件以减小所述尺寸变化的变形力，其中所述力具有预定的限制。
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