[发明专利]采用负性光刻胶组合物形成电镀产品的方法以及在该方法中使用的光敏组合物有效
| 申请号： | 200580019167.1 | 申请日： | 2005-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN1969231A | 公开（公告）日： | 2007-05-23 |
| 发明（设计）人： | 增田靖男;鹫尾泰史;斋藤宏二 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/095;H01L21/48;H05K3/46 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈长会 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种方法，其提供能够形成具有大的电镀深度的多层次电镀产品。采用了一种负性光刻胶组合物，该组合物包含(a)碱溶树脂、(b)酸生成剂和(c)其它组分，并且通过如下步骤形成电镀产品：步骤(A)，形成这种负性光刻胶组合物的层，然后在进行曝光之前进行加热或不加热；步骤(B)，重复所述步骤(A)，使所述步骤(A)进行总计为2次或更多次，以使所述负性光刻胶层叠加，然后将所有这些层同时显影，以形成多层抗蚀剂图案；以及步骤(C)，在这种多层抗蚀剂图案内进行电镀处理。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 光刻 组合 形成 电镀 产品 方法 以及 使用 光敏 | ||
【主权项】：
1.一种形成电镀产品的方法，其包括：步骤(A)，形成负性光刻胶组合物的层，加热并且然后曝光所述层，然后进行加热或不加热；步骤(B)，重复所述步骤(A)，以便所述步骤(A)进行总计为2次或更多次，以使所述负性光刻胶层叠加，然后将所有所述层同时显影，以形成多层抗蚀剂图案；以及步骤(C)，在所述多层抗蚀剂图案内进行电镀处理，其中所述负性光刻胶组合物包含(a)碱溶树脂、(b)酸生成剂、和(c)其它组分。
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