[发明专利]用于纳米级制造的顺从装置无效
申请号: | 200580022985.7 | 申请日: | 2005-05-27 |
公开(公告)号: | CN101076436A | 公开(公告)日: | 2007-11-21 |
发明(设计)人: | 崔炳镇;S·V·斯里尼瓦桑 | 申请(专利权)人: | 分子制模股份有限公司 |
主分类号: | B28B11/08 | 分类号: | B28B11/08 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 胡晓萍 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及包括支撑体(50)、浮体(52)和多个弯曲臂(54、56、58、60)的顺从装置(18)。多个传递臂(54、56、58、60)中的每一个连接于支撑体(50)和浮体(52)之间以在其间平行地传递负载。为此,弯曲臂(54、56、58、60)具有第一和第二组弯曲接合点(62、64、66、68)。第一组弯曲接合点(62、64)有助于所述弯曲臂(54、56、58、60)围绕沿第一方向延伸的第一轴线的旋转运动。第二组弯曲接合点(66、68)被安排成有助于弯曲臂(54、56、58、60)围绕沿与第一方向横切的第二方向延伸的第二轴线的旋转运动。该弯曲接合点(62、64、66、68)是旋转接合点。 | ||
搜索关键词: | 用于 纳米 制造 顺从 装置 | ||
【主权项】:
1.一种顺从装置,包括:支撑体;浮体;以及多个弯曲臂,每一个弯曲臂连接于所述支撑体和所述浮体之间,以在所述支撑体之间平行于所述多个弯曲臂的其余弯曲臂传递负载。
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