[发明专利]用于产生均匀可调的微波等离子体的等离子体喷嘴阵列无效
| 申请号： | 200580025065.0 | 申请日： | 2005-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN101066000A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 李相勋;金重秀 | 申请（专利权）人： | 阿玛仁特技术有限公司;诺日士钢机株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 武玉琴;张友文 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了微波等离子体喷嘴阵列系统(10，70，230和310)和用于设置微波等离子体喷嘴阵列(37，99和337)的方法。以特定方式将微波传输至微波空腔(32)并且在微波空腔(32)内形成包括高能量域(69)的干涉图(66)。高能量域(69)由微波的相位和波长控制。在阵列(37)中设置有多个喷嘴部件(36)。每个喷嘴部件(36)均具有部分设置在微波空腔(32)内的一部分(116)并接收从其中经过的气体。各喷嘴部件(36)从这些高能量域(69)中的一个高能量域接收微波能量。每个喷嘴部件(36)包括具有尖端(117)的棒状导体(114)，将微波聚集在该尖端处并利用所接收的气体产生等离子体(38)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 产生 均匀 可调 微波 等离子体 喷嘴 阵列 | ||
【主权项】：
1.一种设置微波等离子体喷嘴阵列的方法，包括以下步骤：沿相反的方向将微波引入微波空腔内，使微波发生干涉并在微波空腔内形成静态的稳定微波图；调节所述微波中至少一个微波的相位以控制由稳定微波图产生的高能量域；以及将喷嘴阵列至少部分地设置在微波空腔内，使喷嘴阵列中的一个或多个喷嘴部件从对应的一个高能量域中接收微波能量。
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