[发明专利]等离子加工设备有效
申请号: | 200580031890.1 | 申请日: | 2005-09-20 |
公开(公告)号: | CN101023713A | 公开(公告)日: | 2007-08-22 |
发明(设计)人: | 武内稔公;中岛节男;斋藤直道;西川理 | 申请(专利权)人: | 积水化学工业株式会社 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24;H01L21/3065;C23C16/50 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 陈平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提出了一种等离子加工设备,其中电极与壳体之间的绝缘得到提高,并可以从外部控制电极的温度。固体电介质(50)形成在电极(30)的放电空间形成表面上。电极(30)以在放电空间形成表面上的固体电介质(50)被露出的方式放置在壳体(20)内。壳体内的空间(29),即壳体(20)与壳体内部的电极(30)之间的空间,填充有大体上纯净的氮气,氮气的压力比放电空间内的压力设定得大些。优选地,氮气是循环的。 | ||
搜索关键词: | 等离子 加工 设备 | ||
【主权项】:
1、一种通过将加工气体引入到放电空间内实施等离子加工的设备,所述等离子加工设备包括:电极,所述电极具有形成所述放电空间的表面,设置在所述放电空间形成表面处的固体电介质;和壳体,所述壳体以围绕所述电极的方式容纳所述电极,从而设置在所述放电空间形成表面处的所述固体电介质被露出,壳体内空间形成在所述壳体与容纳在所述壳体内的所述电极之间,所述壳体内空间填充有大体上纯净的氮气。
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