[发明专利]超声波清洗装置有效
| 申请号： | 200580034591.3 | 申请日： | 2005-10-06 |
| 公开（公告）号： | CN101052478A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | 松本洋一郎;池田贞一郎;吉泽晋;佐原辉隆;妻木伸夫;北田由光 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立工业设备技术;国立大学法人东京大学 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B06B1/06;B01F1/00;B08B3/10;B01F5/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种超声波清洗装置，其利用施加了超声波的清洗液对被清洗物的表面附着的污渍进行超声波清洗，其特征在于，包括：清洗槽，其贮存所述清洗液；支承台，其在所述清洗液中支承所述被清洗物；超声波产生机构，其朝向所述被清洗物交替会聚频率1～10MHz的第一超声波、和频率在该第一超声波的二分之一以下的第二超声波；会聚位置调节机构，其调节从所述会聚的会聚位置到所述被清洗物的表面的距离；以及移动机构，其使所述超声波产生机构以及所述支承台的至少一个移动，使得由所述超声波产生机构所产生的超声波的效力充分遍及所述被清洗物的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 超声波 清洗 装置 | ||
【主权项】：
1.一种超声波清洗装置，其利用施加了超声波的清洗液对被清洗物的表面附着的污渍进行超声波清洗，其特征在于，包括：清洗槽，其贮存所述清洗液；支承台，其在所述清洗液中支承所述被清洗物；超声波产生机构，其使频率为1～10MHz的第一超声波、和频率在该第一超声波的二分之一以下的第二超声波朝向所述被清洗物交替会聚；会聚位置调节机构，其调节从所述会聚的会聚位置到所述被清洗物的表面的距离；以及移动机构，其使所述超声波产生机构以及所述支承台的至少一个移动，使得由所述超声波产生机构所产生的超声波的效力充分遍及所述被清洗物的表面。
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