[发明专利]漫反射结构及其制造方法以及使用该结构之显示装置无效

专利信息
申请号: 200580035254.6 申请日: 2005-12-06
公开(公告)号: CN101103302A 公开(公告)日: 2008-01-09
发明(设计)人: 坪田雄介 申请(专利权)人: 统宝香港控股有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1362
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张雪梅;梁永
地址: 香港*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要: 发明之一目标为获得一简易且稳定地展示一所要之反射方向性之漫反射结构。一漫反射结构之该制造方法包含:在一基础层上沉积一感光材料2;使用一半色调光罩3遮蔽该感光材料2,该半色调光罩3具有透射区域31及光屏蔽区域32中之至少一者且具有一半透射区域33;藉由经该光罩3使该感光材料暴露至光下并显影该材料来在该感光材料的一层之一表面上形成不平坦21、22,该不平坦对应于峰部分及半途部分,所述峰部分对应于所述区域31、32中之一者而半途部分对应于该半透射区域;及在该所形成之不平坦表面上沉积一光学反射材料4。为以一灰阶透射该入射光,该光罩3在该透射区域31及该光屏蔽区域32中之一者或其二者中及/或在该半透射区域33中包含一条纹排列部分,该条纹排列部分具有能够以相对高的第一透射率透射入射光之第一线性部分34及能够以相对低的第二透射率截留入射光之第二线性部分35,所述第一线性部分34及所述第二线性部分35系交替地互相平行置放。对应于该条纹排列部分之该感光材料2的一层之一表面具有小型底部部分及小型峰部分,所述小型底部部分对应于所述第一及所述第二线性部分中之一者34而所述小型峰部分对应于另一者35(参看图7)。
搜索关键词: 漫反射 结构 及其 制造 方法 以及 使用 显示装置
【主权项】:
1.一种用于一漫反射结构之制造方法,其包含:一第一步骤:在一基础层上沉积一感光材料;一第二步骤:使用一半色调光罩来遮蔽该感光材料,该半色调光罩具有透射区域及光屏蔽区域中之至少一者且具有一半透射区域;一第三步骤:藉由经该光罩使该感光材料暴露至光下并显影该材料来在该感光材料的一层之一表面上形成不平坦以提供一光学漫反射特性,该不平坦对应于峰部分及半途部分,所述峰部分对应于该透射区域及该光屏蔽区域中之一者而所述半途部分对应于该半透射区域;及一第四步骤:在该所形成之不平坦表面上沉积一光学反射材料,其中为以一灰阶透射入射光,该半色调光罩在该透射区域及该光屏蔽区域中之一者或二者中及/或在该半透射区域中包含一条纹排列部分,该条纹排列部分具有能够以一相对高的第一透射率透射该入射光之第一线性部分及能够以一相对低的第二透射率截留该入射光之第二线性部分,所述第一线性部分及所述第二线性部分系交替地互相平行置放,且对应于该条纹排列部分之该感光材料的一层之一表面具有小型底部部分及小型峰部分,所述小型底部部分对应于所述第一及第二线性部分中之一者而所述小型峰部分对应于另一者。
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