[发明专利]加工液液质控制装置与方法、以及放电加工装置有效
| 申请号： | 200580038144.5 | 申请日： | 2005-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN101056734A | 公开（公告）日： | 2007-10-17 |
| 发明（设计）人： | 瓦井久胜;佐藤清侍;石原秀一郎 | 申请（专利权）人： | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号： | B23H1/10 | 分类号： | B23H1/10;B01J47/02 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 何立波;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明获得一种不使用pH计而控制作为在放电加工处理中使用的加工液的离子交换水的pH值和导电率的加工液液质控制装置及其方法。其具有：加工液槽，其储存加工液；纯水化部，其从加工液槽的加工液中去除杂质离子并生成纯水，以使得杂质离子达到规定量；防腐蚀离子生成部，其将加工液槽内的加工液中的杂质阳离子置换为规定的阳离子，将杂质阴离子置换为防腐蚀离子；切换部，其将加工液槽中的加工液切换为送入纯水化部或防腐蚀离子生成部中的某一个；导电率测定部，其测定加工液槽内的加工液的导电率；以及切换控制部，其根据由导电率测定部测定出的导电率，控制切换部，以将加工液送入纯水化部或防腐蚀离子生成部中的某一个。 | ||
| 搜索关键词： | 加工 液液质 控制 装置 方法 以及 放电 | ||
【主权项】：
1.一种加工液液质控制装置，其特征在于，具有：加工液槽，其储存加工液；纯水化单元，其从前述加工液槽内的加工液中去除杂质离子并生成纯水，使得杂质离子成为规定量；防腐蚀离子生成单元，其将前述加工液槽内的加工液中的杂质阳离子置换为规定的阳离子，将杂质阴离子置换为防腐蚀离子；切换单元，其将前述加工液槽内的加工液切换为送入前述纯水化单元或前述防腐蚀离子生成单元中的某一个；导电率测定单元，其测定前述加工液槽内的加工液的导电率；以及切换控制单元，其根据由前述导电率测定单元测定出的导电率，控制前述切换单元，以将前述加工液送入前述纯水化单元或前述防腐蚀离子生成单元中的某一个。
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