[发明专利]用于在光致抗蚀剂图案上涂覆的组合物无效
申请号: | 200580038784.6 | 申请日: | 2005-10-25 |
公开(公告)号: | CN101057185A | 公开(公告)日: | 2007-10-17 |
发明(设计)人: | 工藤隆范;M·帕德曼纳班;R·R·达莫尔 | 申请(专利权)人: | AZ电子材料美国公司 |
主分类号: | G03F7/40 | 分类号: | G03F7/40 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王健 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物,其包含含氨基的聚合物。本发明还涉及微电子元件的制造方法,包括:提供具有光致抗蚀剂图案的衬底,用新型涂料涂覆所述光致抗蚀剂图案,让与所述光致抗蚀剂图案接触的涂料的一部分反应,和将没有与移除溶液反应的涂料的一部分除去。 | ||
搜索关键词: | 用于 光致抗蚀剂 图案 上涂覆 组合 | ||
【主权项】:
1.用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物,其包含含氨基的聚合物。
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