[发明专利]在其它元件的处理期间存储单元的有源层的保护无效
| 申请号： | 200580038928.8 | 申请日： | 2005-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN101057345A | 公开（公告）日： | 2007-10-17 |
| 发明（设计）人： | S·阿万兹诺;I·索科利克;S·K·潘格勒;N·H·特里普沙斯;J·A·希尔兹 | 申请（专利权）人： | 斯班逊有限公司 |
| 主分类号： | H01L45/00 | 分类号： | H01L45/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟;王锦阳 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种通过提供导电层(102)、提供介电层(100)在导电层(102)上、提供第一和第二开孔(104，106)通过介电层(100)、分别在第一和第二开孔(104，106)中提供第一和第二导电体(108，110)且与导电层(102)接触、提供存储结构(126)在第一导电体(108)上、提供保护元件(134)在存储结构(126)上、以及在第二导电体(110)上进行处理来制造电子结构的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 其它 元件 处理 期间 存储 单元 有源 保护 | ||
【主权项】：
1.一种制造电子结构的方法，包括：提供基底结构(124)；在该基底结构(124)的一部分上设置存储结构(126)；在该存储结构(126)上设置保护元件(134)；以及在不在该保护元件(134)下的该基底结构(124)的区域对该基底结构(124)施行处理。
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