[发明专利]印花转印刻蚀有效
| 申请号： | 200580039211.5 | 申请日： | 2005-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN101061432A | 公开（公告）日： | 2007-10-24 |
| 发明（设计）人： | 拉尔夫·G·努若;威廉·R·蔡尔兹;迈克尔·J·莫特拉;李健在 | 申请（专利权）人： | 伊利诺斯大学理事会 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 梁兴龙;武玉琴 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种制造微结构的方法，包括选择性活化含硅弹性体的部分表面，使该活化部分与物质接触，以及使该活化部分与物质结合，使得该表面的活化部分和与该活化部分接触的物质不可逆地连接。通过在该含硅弹性体的表面上配置掩模以及用UV射线照射该露出部分可以实现这种选择性活化。 | ||
| 搜索关键词： | 印花 印刻 | ||
【主权项】：
1.一种制造微结构的方法，包括：选择性活化含硅弹性体的部分表面；使所述活化部分与物质接触；以及使所述活化部分与物质结合，使得所述活化部分和与所述活化部分接触的物质不可逆地连接。
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