[发明专利]使用含硅密封剂制造发光装置的方法有效
申请号: | 200580039554.1 | 申请日: | 2005-11-14 |
公开(公告)号: | CN101061589A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
发明(设计)人: | 拉里·D·博德曼;D·斯科特·汤普森;凯瑟琳·A·莱瑟达尔;安德鲁·J·欧德科克 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;C08G77/04;H01L23/29 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁业平;张天舒 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了一种发光装置的制造方法。该方法包括提供发光二极管的步骤和形成与该发光二极管相接触的密封剂的步骤;其中形成密封剂的步骤包括使由含硅树脂和含金属催化剂组成的光致聚合型组合物与发光二极管相接触的过程,以及采用波长为小于或等于700nm的光化辐射来引发含硅树脂内的硅氢化反应的过程,其中所述的含硅树脂由与硅键合的氢和脂肪族不饱和官能团组成。 | ||
搜索关键词: | 使用 密封剂 制造 发光 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种发光装置的制造方法,该方法包括以下步骤:提供发光二极管;以及形成与该发光二极管相接触的密封剂,其中该密封剂的形成过程包括:使所述的发光二极管与包含含硅树脂和含金属催化剂的光致聚合型组合物相接触,其中所述的含硅树脂包含与硅键合的氢和脂肪族不饱和官能团;和施加波长为小于或等于700nm的光化辐射来引发所述含硅树脂内的硅氢化反应。
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