[发明专利]用于为互连焊盘提供结构支撑同时允许信号传导的方法和装置有效
申请号: | 200580040951.0 | 申请日: | 2005-11-30 |
公开(公告)号: | CN101167170A | 公开(公告)日: | 2008-04-23 |
发明(设计)人: | 凯文·J·埃斯;苏珊·H·唐尼;詹姆斯·W·米勒;杨俊才 | 申请(专利权)人: | 飞思卡尔半导体公司 |
主分类号: | H01L21/44 | 分类号: | H01L21/44;H01L23/48;H01L23/52;H01L29/40 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 穆德骏;黄启行 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种方法(10),在下面的功能金属层与低模量电介质绝缘时提供具有增强的结构支撑的互连(60、160、260)结构。具有多个开口的第一金属层(80)位于基板上面。第一电绝缘层(82)位于第一金属层上面。第二金属层(84)位于第一电绝缘层上面,该第二金属层具有多个开口。定义了互连焊盘区域的互连焊盘(61、140)位于第二金属层上面。使两个金属层中的至少特定数量的开口(98、99)对准,以提高互连结构的结构强度。对准的数量可以依赖于应用和所使用的材料而有所不同。线接合连接或者传导凸点可以同该互连结构一起使用。 | ||
搜索关键词: | 用于 互连 提供 结构 支撑 同时 允许 信号 传导 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于为互连焊盘提供结构支撑的方法,所述方法包括:提供基板;在基板上面提供第一金属层,所述第一金属层具有多个开口;在第一金属层上面提供第一电绝缘层;在第一电绝缘层上面提供第二金属层,所述第二金属层具有多个开口;在第二金属层上面提供互连焊盘,所述互连焊盘定义了互连焊盘区域;通过针对第一金属层和第二金属层的逻辑运算创建物理版图形状;确定X值,其是互连焊盘区域中的物理版图形状的金属密度;并且使用X值确定第一金属层的多个开口同第二金属层的多个开口是否存在充分对准,用于充分的结构支撑。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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