[发明专利]具有可旋转衬底基座的物理气相沉积室无效
| 申请号： | 200580041193.4 | 申请日： | 2005-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN101068948A | 公开（公告）日： | 2007-11-07 |
| 发明（设计）人： | 伊利亚·拉维特斯凯;迈克尔·罗森斯坦;吉富吾一;洪宫·王;振东·刘;叶梦奇 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;陈红 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明设计一种具有可旋转衬底基座的物理气相沉积(PVD)室。本发明的实施方式使得高度均匀薄膜的沉积更加方便。在进一步的实施方式中，一个或多个溅射靶可移动地设置在该基座之上。靶相对于基座的取向可横向、垂直或成角度地调节。在一个实施方式中，靶可调节为在相对于基座旋转轴约0度到约45度之间的角度。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 旋转 衬底 基座 物理 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种物理气相沉积室，包括：室体；溅射靶；以及可旋转衬底基座，与所述溅射靶相对地设置在所述室体内部空间中。
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