[发明专利]子囊霉素晶形及其制备无效

专利信息
申请号: 200580041360.5 申请日: 2005-12-01
公开(公告)号: CN101233141A 公开(公告)日: 2008-07-30
发明(设计)人: V·克里;J·阿伦希姆;E·梅萨罗斯索斯;A·科瓦奇尼-梅蔡 申请(专利权)人: 特瓦药厂私人有限公司
主分类号: C07D498/18 分类号: C07D498/18;C07H19/01;A61K31/395;A61K31/70;A61P17/00;A61P31/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吕彩霞;韦欣华
地址: 匈牙利*** 国省代码: 匈牙利;HU
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摘要: 发明提供子囊霉素新晶形及其制备方法和包括这类子囊霉素晶形的药物组合物。
搜索关键词: 子囊 霉素 晶形 及其 制备
【主权项】:
1.子囊霉素晶形A,特征在于数据选自:峰在约8.7、11.8和14.3±0.2度2θ的粉末X-射线衍射图;峰在约3443、1639、1194和1092cm-1 处的FTIR光谱;和在约148-152℃和约158-162℃处显示出两处吸热的DSC热分析图。
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