[发明专利]正型干膜光致抗蚀剂和用于制备该光致抗蚀剂的组合物有效
| 申请号： | 200580042324.0 | 申请日： | 2005-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN101073036A | 公开（公告）日： | 2007-11-14 |
| 发明（设计）人： | 朴世炯;金炳基;朴钟旼;白圣寅 | 申请（专利权）人： | 可隆株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/022 | 分类号： | G03F7/022 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王旭 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 正型光致抗蚀剂树脂膜包含载体膜和层压在所述载体膜上面的正型光致抗蚀剂树脂层。所述载体膜的峰高(Rp)小于约300nm以消除鱼眼缺陷。所述正型光致抗蚀剂树脂层可以包含碱溶性树脂、重氮化物基光敏化合物、增塑剂以及任选的灵敏度增强剂和释放剂。 | ||
| 搜索关键词： | 正型干膜光致抗蚀剂 用于 制备 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种干膜抗蚀剂，其包含：载体膜，所述载体膜具有不大于约300nm的峰高(Rp)，所述峰高(Rp)定义为位于选择区域的高度剖面(z轴方向)中的平均表面高度(MHt)和最高表面峰的高度之间的高度差；和在所述载体膜上面的光致抗蚀剂层，其中所述光致抗蚀剂层包含碱溶性树脂、重氮化物基光敏化合物和增塑剂。
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