[发明专利]具有后模制镀镍/钯/金的引线的半导体装置无效

专利信息
申请号: 200580042625.3 申请日: 2005-10-28
公开(公告)号: CN101405862A 公开(公告)日: 2009-04-08
发明(设计)人: 唐纳德·C·阿博特;埃德加·R·祖尼加-奥尔蒂斯 申请(专利权)人: 德州仪器公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L21/00
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 王允方;刘国伟
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种具有引线框的半导体装置,所述引线框由基底金属(110,例如,铜)、芯片安装垫(103)和多个引线区段(104)组成。所述区段中的每一者具有接近所述安装垫的第一末端(104a)和远离所述安装垫的第二末端(104b)。所述装置进一步具有附着于所述安装垫的半导体芯片(103)和位于所述芯片与所述第一区段末端之间的电互连(107)。封装材料(120)覆盖所述芯片、接合线和所述第一区段末端,然而使所述第二区段末端保持暴露。所述第二区段末端的至少若干部分的所述基底金属由可软焊金属层(130,例如,镍)和贵金属最外层(140,例如,钯与金的堆叠)覆盖。
搜索关键词: 具有 后模制镀镍 引线 半导体 装置
【主权项】:
1.一种半导体装置,其包含:半导体芯片,其具有多个接合垫;引线框,其包含基底金属且具有多个引线区段,所述区段中的每一者具有接近所述芯片的第一末端和远离所述芯片的第二末端;电互连,其分别位于所述芯片接合垫与所述第一区段末端之间;封装材料,其覆盖所述芯片、电互连和第一区段末端,但使所述第二区段末端仍保持暴露;和所述第二区段末端的至少若干部分,其所述基底金属由可软焊金属层和贵金属最外层的堆叠所覆盖。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德州仪器公司,未经德州仪器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580042625.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top