[发明专利]用于高密度等离子体应用的高真空下的自冷却气体分配装置

摘要

本发明提供一用于半导体制程处理室(117)的气体分配器(400)。该气体分配器包括一气体入口(420)、一气体出口(516)、以及一具有螺纹(404)的杆部(402)。该气体分配器更包括一本体(414)，其具有一自该杆部径向往外延伸的气体偏斜表面(410)，以及一源自该气体偏斜表面、且设于该本体相对侧上的下表面；一设于该螺纹及该气体偏斜表面之间的横向座(406)；以及一自该气体入口通过该杆部及本体而至气体出口的气体通道(512)。于一特定实施例中，该横向座是适于承托一密封组件(822)。

主权项

1.一种用于半导体制程处理室的气体分配器，其至少包含：一气体入口；一气体出口；一杆部，具有一螺纹；一本体，具有一自该杆部径向往外延伸的气体偏斜表面，以及一源自该气体偏斜表面、且设于该本体相对侧上的下表面；一横向座，设于该螺纹及该气体偏斜表面之间；以及一气体通道，自该气体入口延伸通过该杆部及本体而至该气体出口。