[发明专利]具有中孔颗粒的混合基质膜及其制备方法无效
| 申请号： | 200580043656.0 | 申请日： | 2005-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN101084052A | 公开（公告）日： | 2007-12-05 |
| 发明（设计）人： | S·J·米勒;A·库珀曼;D·Q·武 | 申请（专利权）人： | 切夫里昂美国公司 |
| 主分类号： | B01D53/22 | 分类号： | B01D53/22 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 邓毅 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了从气体组分的混合物中分离气体组分的混合基质膜。该膜包括连续相聚合物与散布于该聚合物中的无机多孔颗粒，优选分子筛。该聚合物具有至少20的CO2/CH4选择性，该多孔颗粒具有至少0.1cc STP/g的中孔隙率。与由纯聚合物制备的膜相比，该混合基质膜的渗透性提高至少30％，而选择性的任何降低不超过10％。该多孔颗粒可以包括、但不限于分子筛例如CVX－7和SSZ－13和/或其它具有所需中孔隙率的分子筛。还公开了制备该混合基质膜的方法。此外，公开了使用具有中孔颗粒的混合基质膜从气体组分的混合物中分离气体组分的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 颗粒 混合 基质 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、用于流体分离的混合基质膜，包括：连续相聚合物与散布于其中的无机分子筛，该聚合物具有至少20的CO2/CH4选择性和该分子筛具有至少0.1cc STP/g的中孔隙率；与由纯聚合物制备的膜相比，该混合基质膜的CO2渗透性提高至少30％，而选择性的任何降低不超过10％。
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