[发明专利]用于硅电极部件蚀刻速度和蚀刻均匀性恢复的方法无效
| 申请号： | 200580044362.X | 申请日： | 2005-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN101137461A | 公开（公告）日： | 2008-03-05 |
| 发明（设计）人： | 黄拓川;任大星;石洪;凯瑟琳·周;晏淳;恩瑞库·麦格尼;严必明;杰罗姆·胡巴塞克;林大正;宋东永 | 申请（专利权）人： | 兰姆研究公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余刚;李丙林 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 用于清洁电极部件的方法，该电极部件可用于在清洁之后在等离子蚀刻室中蚀刻介电材料，该方法包括抛光电极部件的硅表面，优选地从硅表面去除黑色硅金属沾污。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电极 部件 蚀刻 速度 均匀 恢复 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清洁用过的电极部件的方法，该电极部件包括等离子外露硅表面，该方法包括抛光该硅表面，其中该清洁从该硅表面去除黑色硅。
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