[发明专利]像差校正设备无效
| 申请号： | 200580045088.8 | 申请日： | 2005-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN101091122A | 公开（公告）日： | 2007-12-19 |
| 发明（设计）人： | H·范桑滕;M·A·H·范德阿 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/14 | 分类号： | G02B3/14;G02B26/02;G11B7/135 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 李亚非;谭祐祥 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在光盘系统中，由于顶层厚度的变化所导致的球面像差或由于包括多层的光盘的原因，读出受到阻碍。本发明中的像差校正设备(1)布置成校正这种光学像差。因此，像差校正设备(1)包括容纳第一流体和第二流体的流体室，第一流体和第二流体具有不同的折射率。第一流体(5)和第二流体(6)在弯月面(7)上接触，弯月面(7)作为折射表面，其中，弯月面(7)的形状可受到由磁化线圈(20)产生的磁场的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 校正 设备 | ||
【主权项】：
1.用于校正光学存储系统中的光学像差的像差校正设备(1)，所述像差校正设备包括：流体室(2)，所述流体室(2)包括至少部分地透明的侧壁(3)、磁场产生元件(20)、第一流体(5)和至少一个第二流体(6)，所述至少部分地透明的侧壁(3)使辐射束能够在所述流体室(2)中照射，所述磁场产生元件(20)用于至少在所述流体室(2)的区域(17)中产生磁场，所述第一流体(5)和所述至少一个第二流体(6)具有不同的折射率，其中：所述流体室容纳所述第一流体和所述第二流体，其中：所述第一流体和所述第二流体至少基本上不混溶且在弯月面(7)上接触，所述弯月面(7)作为用于所述辐射束的折射表面，以及其中：所述第二流体至少部分地可由所述磁场产生元件产生的所述磁场的影响移动，以影响所述弯月面的形状。
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