[发明专利]具有较低水平杂质的奥美沙坦酯无效
| 申请号： | 200580045787.2 | 申请日： | 2005-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN101094850A | 公开（公告）日： | 2007-12-26 |
| 发明（设计）人： | L·赫瓦蒂;G·皮拉斯基 | 申请（专利权）人： | 特瓦制药工业有限公司 |
| 主分类号： | C07D403/10 | 分类号： | C07D403/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张轶东;李炳爱 |
| 地址： | 以色列佩*** | 国省代码： | 以色列;IL |
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| 摘要： | 本发明提供了一种制备含有小于约0.1％的OLM－Me、OLM－Cl和OLM－消去物中的一种或多种杂质的奥美沙坦酯的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 水平 杂质 奥美沙坦酯 | ||
【主权项】：
1、一种制备含有小于约0.1％的OLM-Me、OLM-Cl和OLM-消去物中的一种或多种的奥美沙坦酯的方法，包括：a)获得三苯甲基奥美沙坦酯试样；b)在三苯甲基奥美沙坦酯试样中测定选自MTT-Me、MTT-Cl和MTT-消去物中的一种或多种杂质的含量；c)选择其中所测量的杂质中的一种或多种的含量小于约0.1％的三苯甲基奥美沙坦酯试样；d)从在步骤c)中选择出来的三苯甲基奥美沙坦酯合成奥美沙坦酯。
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