[发明专利]含硅感光性组合物、使用该组合物的薄膜图案的制造方法、电子机器用保护膜、栅极绝缘膜和薄膜晶体管无效
| 申请号： | 200580045961.3 | 申请日： | 2005-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN101099113A | 公开（公告）日： | 2008-01-02 |
| 发明（设计）人： | 松川公洋;松浦幸仁;东贤一;中村秀;日下康成 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社;松川公洋;松浦幸仁 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075;G11C11/42;G02B5/20;H01L21/027;G03F7/004;H01L21/336;G03F7/038;H01L29/786 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有感光性、即使不使用交联剂也可以进行碱成像的感光性组合物。本发明涉及一种含硅感光性组合物，其特征在于，包括：具有用上述通式(1)(式中，R11～R1n的至少一种为H，n为1以上的整数)表示的结构，R11～R1n中的至少一种为H，其余为有机基团的至少一种的聚合物(A1)或者含有至少一种的所述聚合物(A1)以及用下述通式(2)(式中，R21～R2n为H以外的原子或官能团，n为1以上的整数)表示的一种聚合物(A2)的含硅聚合物；和，通过放射活化射线或放射线产生酸或碱的化合物(B)。 | ||
| 搜索关键词： | 感光性 组合 使用 薄膜 图案 制造 方法 电子 机器 保护膜 栅极 绝缘 薄膜晶体管 | ||
【主权项】：
1.一种含硅感光性组合物，该组合物含有：至少一种含硅聚合物(A1)，其具有下述通式(1)表示的结构，R11～R1n中的至少之一为H，和化合物(B)，其通过活化光线或放射线照射产生酸或碱，[化2]聚合物(A1)![]()
...(式1)(式中，R11～R1n中的至少之一为H，n为1以上的整数)。
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