[发明专利]用于二氧化硅和氮化硅层的蚀刻的可印刷介质无效
| 申请号： | 200580046197.1 | 申请日： | 2005-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN101098833A | 公开（公告）日： | 2008-01-02 |
| 发明（设计）人： | W·斯托库姆;A·屈贝尔贝克;S·克莱因 | 申请（专利权）人： | 默克专利股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘明海 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及在太阳能电池生产中用于表面蚀刻的具有非牛顿流动性能的新颖可印刷蚀刻介质及其用途。本发明特别涉及对应的含粒子的组合物，通过该组合物可以蚀刻高度选择性的细结构而不损害或侵蚀相邻表面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 二氧化硅 氮化 蚀刻 可印刷 介质 | ||
【主权项】：
1.用于蚀刻和任选地掺杂选自基于二氧化硅的玻璃和基于氮化硅的玻璃的无机玻璃状或结晶层的糊剂形式的可印刷蚀刻介质，该层位于结晶或无定形硅表面上，该介质包括a)蚀刻组分b)溶剂c)聚合物和/或无机粒子，d)任选地均匀溶解的有机增稠剂e)任选地至少一种无机和/或有机酸，和任选地f)添加剂，如防沫剂、触变剂、流动控制剂、脱气剂、粘合促进剂。
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