[发明专利]含钛氧化硅催化剂的制造方法、该催化剂、以及使用该催化剂的烯化氧化合物的制造方法无效
申请号: | 200580047795.0 | 申请日: | 2005-11-30 |
公开(公告)号: | CN101115561A | 公开(公告)日: | 2008-01-30 |
发明(设计)人: | 山本纯 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | B01J37/03 | 分类号: | B01J37/03;B01J21/08;B01J35/10;C07B61/00;C07D301/19;C07D303/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 孙秀武;李炳爱 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及包含下述的工序A和B的含钛氧化硅催化剂的制造方法、由该方法得到的催化剂、以及使用该催化剂的烯化氧化合物的制造方法,工序A:使用部分或全部烃基直接键合在硅原子上的硅化合物作为硅源,将该硅源和钛源以及模板溶液混合·搅拌,从而得到含有催化剂成分和模板的固体的工序,其中,模板溶液的溶剂中的水的比例为50重量%以下;或者使用包含烃基直接键合在硅原子上的硅化合物的有机硅源以及包含不具有碳-硅键的硅化合物的硅化合物作为硅源,通过将该硅源和钛源以及模板溶液混合·搅拌,得到含有催化剂成分和模板的固体的工序,其中,在硅源向模板溶液中添加的过程中满足下面的关系式,在前半段添加的有机硅源的量>在后半段添加的有机硅源的量,工序B:从工序A得到的固体中除去模板的工序。 | ||
搜索关键词: | 氧化 催化剂 制造 方法 以及 使用 | ||
【主权项】:
1.含钛氧化硅催化剂的制造方法,该催化剂满足下述(1)~(3)的条件,并且该制造方法包括下述的工序A和B,(1)平均孔径为10以上;(2)总孔容积的90%以上具有5~200的孔径;以及(3)比孔容积为0.2cm3/g以上,工序A:(I)使用部分或全部烃基直接键合在硅原子上的硅化合物作为硅源,将该硅源和钛源以及模板溶液混合·搅拌,从而得到含有催化剂成分和模板的固体的工序,其中,模板溶液的溶剂中的水的比例为50重量%以下;或者(II)使用包含烃基直接键合在硅原子上的硅化合物的有机硅源以及包含不具有碳-硅键的硅化合物的无机硅源作为硅源,将该硅源、钛源以及模板溶液混合·搅拌,从而得到含有催化剂成分和模板的固体的工序,其中,在硅源向模板溶液中添加的过程中满足下面的关系式:在前半段添加的有机硅源的量>在后半段添加的有机硅源的量其中,所谓前半段是指从添加硅源开始直到添加硅源总量(摩尔)的一半摩尔数的期间,以及工序B:从工序A得到的固体中除去模板的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社,未经住友化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580047795.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:等离子体显示装置
- 下一篇:具有嵌入的微晶的波长转换层