[发明专利]分配装置及其使用方法

摘要

本发明涉及一种包括圆柱形器皿的气相反应物分配装置，圆柱形器皿包括底板以及由内壁和底板面限界的内部体积。器皿(4)设有用于检测器皿内部体积中的液体反应物液位的液体反应物液位传感器(2)，并且设有用于检测器皿内部体积中的液体反应物温度的温度传感器(1，11)。该器皿的底板具有设在其中并从底板的表面向下延伸的凹穴(3)，并且液体反应物液位传感器(2)和温度传感器(1，11)的下端位于该凹穴内。该分配装置可用于分配反应物，例如用于在半导体材料和器件制造中进行材料沉积的前体。

主权项

1.一种气相反应物分配装置，包括：圆柱形闭合器皿，所述器皿在其上端由可移动顶壁部件限界，并且在其下端由底壁部件限界，以便在其中限定内部体积；所述底壁部件具有主底板面，所述主底板面在其中包含从所述主底板面向下延伸的集液池凹穴，所述集液池凹穴在其下端由次底板面限界，其中，所述集液池凹穴的至少一部分居中地定位在所述底壁部件上，而所述集液池凹穴的至少一部分非居中地定位在所述底壁部件上；温度传感器，其从所述器皿外部的上端延伸穿过所述顶壁部件的居中定位部分并且大体上垂直地向下进入所述器皿的所述内部体积，而到达居中地定位在所述底壁部件上的所述集液池凹穴的那部分的下端，其中，所述温度传感器的下端设置成非干涉式地靠近所述集液池凹穴的所述次底板面；液体反应物液位传感器，其从所述器皿外部的上端延伸穿过所述顶壁部件的非居中定位部分并且大体上垂直地向下进入所述器皿的所述内部体积，而到达非居中地定位在所述底壁部件上的所述集液池凹穴的那部分的下端，其中，所述液体反应物液位传感器的下端设置成非干涉式地靠近所述集液池凹穴的所述次底板面；以及所述温度传感器可操作地设置在所述集液池凹穴内，以便测定所述器皿内液体反应物的温度，所述液体反应物液位传感器可操作地设置在所述集液池凹穴内，以便测定所述器皿内液体反应物的液位，所述温度传感器和液体反应物液位传感器在所述集液池凹穴内设置成非干涉式地相互靠近，并且所述温度传感器和液体反应物液位传感器在所述集液池凹穴内是以液体反应物形成流体连通的。