[发明专利]用于多曝光射束光刻装置的方法有效
| 申请号： | 200580049969.7 | 申请日： | 2005-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN101194208A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | 弗雷德里克·肖斯特罗姆 | 申请（专利权）人： | 麦克罗尼克激光系统公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 马高平 |
| 地址： | 瑞典*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的一个方面包括一种同时使用多个曝光射束构图工件的方法，所述工件至少部分由对电磁辐射敏感的层覆盖。在一实施例中，确定是否射束相对参考射束具有偏离其预期位置的实际位置。对于错误定位的射束，如果所述射束打印在特征边缘上，则调整所述射束的曝光量。本发明的其它方面在详细说明书、附图和权利要求中反映。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 曝光 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种同时使用多个曝光射束构图工件的方法，所述工件至少部分由对电磁辐射敏感的层覆盖，所述方法包括以下步骤：通过调整所述多个曝光射束中的至少一个曝光射束的量，补偿相邻曝光射束之间的距离与名义值的偏离，从而减少所述工件上所述图案中的临界尺寸误差。
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