[发明专利]真空蒸镀用校准装置

摘要

一种真空蒸镀用校准装置，具有基片保持架(11)、连接用板(13)、位置调整装置(14)、伸缩式筒状遮断构件(15)及施力装置(16)；该基片保持架(11)在保持于真空容器(3)内的掩模的上方通过悬挂构件(12)保持，该悬挂构件(12)插通到形成于作为真空容器上壁面的安装用板(1a)的贯通孔(1b)；该连接用板(13)设于真空容器的外部，同时，连接于悬挂构件；该位置调整装置(14)使该连接用板移动，可调整蒸镀室(2)内的基片(5)相对掩模的位置；该伸缩式筒状遮断构件(15)外嵌于悬挂构件，同时，设于安装用板的贯通孔(1b)的外周与连接用板间，遮断真空侧与大气侧；该施力装置(16)产生与因筒状遮断构件的内侧处于真空状态而产生的作用于连接用板的推压力方向相反的力。

主权项

1.一种真空蒸镀用校准装置，对掩模进行基片的对位，该掩模在按预定图形将蒸镀材料蒸镀到保持于真空容器内的该基片的表面时使用；其特征在于：具有基片保持架、连接用板、位置调整装置、伸缩式筒状遮断构件及施力装置；该基片保持架在保持于上述真空容器内的掩模的上方通过悬挂构件保持，该悬挂构件插通到形成于该真空容器的壁体的贯通孔；该连接用板设于上述真空容器的外方，而且连接于上述悬挂构件；该位置调整装置可使该连接用板移动而调整保持于基片保持架的蒸镀室内的基片相对掩模的位置；该伸缩式筒状遮断构件外嵌于上述悬挂构件，而且设于壁体的贯通孔的外周与上述连接用板之间，遮断真空侧与大气侧；该施力装置产生与上述筒状遮断构件的内侧处于真空状态所产生的作用于连接用板的推压力方向相反的力。