[发明专利]一种具有可控磁场的脉冲激光沉积制膜系统

摘要

本发明涉及一种具有可控磁场的脉冲激光沉积系统，该系统为在传统PLD设备基础上加一套外加强磁场装置，包括：所述的真空室设置成侧壁有一凸出腔，在该凸出腔内安装所述的靶组件和所述的基片加热器；所述的石英玻璃窗口设置在凸出腔上方；还包括一套电磁铁组件，该组件的电磁铁线圈放置在真空室凸出腔外侧，两铁芯磁极通过密封法兰环接到腔内基片加热器的两侧，电磁铁通过控制电源和计算机相连；基片加热器和靶组件与电磁铁的铁芯非接触。本发明装置结构简单，易操作。能容易的在薄膜生长或退火过程中外加可控强磁场，实现传统PLD所不能生长的薄膜。为制备研究新型特殊结构的薄膜样品提供了有效的实验装置。

主权项

1.一种具有可控磁场的脉冲激光沉积制膜系统，包括真空室(14)，由机械泵、分子泵和管路组成的真空机组(10)；高压气瓶(11)放置在真空室(14)外，通过真空室壁上的针阀与真空室(14)连通组成充气系统；真空室中安装靶组件(13)和基片加热器(7)，控制电源(8)与基片加热器(7)连接组成加热控温部分；准分子脉冲激光器(1)放置在真空室(14)外，其产生的脉冲激光经过聚焦透镜(2)聚焦后，经光束扫描镜反射，通过石英玻璃窗口(5)照射到靶材上；其特征在于：所述的真空室(14)设置成侧壁有一凸出腔(15)，在该凸出腔(15)内安装所述的靶组件(13)和所述的基片加热器(7)；所述的石英玻璃窗口(5)设置在凸出腔(15)上方；还包括一套电磁铁组件，该组件的电磁铁线圈(17)放置在真空室凸出腔(15)外侧，两铁芯(16)的两磁极通过密封法兰环(20)，接到真空室内的基片加热器(7)的两侧，电磁铁(4)通过控制电源(18)和计算机相连；基片加热器(7)和靶组件(13)与电磁铁的铁芯(16)非接触。