[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200610004195.2 | 申请日： | 2006-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN1825208A | 公开（公告）日： | 2006-08-30 |
| 发明（设计）人： | M·K·斯塔文加;J·H·W·雅各布斯;H·詹森;M·C·M·维哈根 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 胡强 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了用于减小光刻装置的液体供给系统中的压力梯度的各种类型的压力调节器件，液体供给系统具有构造成可在光刻装置的投影系统与衬底台之间至少部分地限制液体的液体限制结构。高的压力梯度会引起液体供给系统和/或液体限制结构中的颗粒污染。例如可以利用在一个或多个阀中的低速切换、围绕或通过一个或多个阀的引射流、将液体改道到排出管而不是或者附加地将阀切断、用于防止冲击波的压力调节器或流动限制器，以及用于补偿压力波动的缓冲容积/缓冲器，来减小压力梯度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：衬底台，其构造成可固定衬底；投影系统，其构造成可将辐射光束投射到衬底的目标部分上；液体供给系统，其包括构造成可在投影系统与衬底台之间至少部分地限制液体的液体限制结构，和其包括构造成可减小提供给液体限制结构的液体中的压力波动的压力调节器件。
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