[发明专利]基板处理装置无效
申请号: | 200610006961.9 | 申请日: | 2006-01-26 |
公开(公告)号: | CN1836799A | 公开(公告)日: | 2006-09-27 |
发明(设计)人: | 山本悟史 | 申请(专利权)人: | 大日本网目版制造株式会社 |
主分类号: | B08B7/00 | 分类号: | B08B7/00;B08B3/04;F25C1/00;G02F1/13;H01L21/304 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高龙鑫;王玉双 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种在将含有冰的微粒的处理液向基板的表面供给而进行基板的处理时、能够以不会产生处理不均匀的方式进行均匀处理、也不会损伤形成在基板上的膜层的装置。该装置具有:进行基板处理的基板处理部(10);使纯水中含有冰的微粒的冰浆制造装置(12);使气体溶解于冰浆中的装置;对冰浆进行加压的加压泵(52)以及加压槽(14);将溶解气体且被加压的冰浆向基板处理部(10)供给的冰浆供给配管(56)。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
【主权项】:
1.一种基板处理装置,向基板的主面供给处理液而处理基板,其特征在于,具有:使处理液中含有冰的微粒的冰浆调制装置;使气体溶解于处理液中的气体溶解装置;对处理液进行加压的处理液加压装置;将溶解了气体且含有冰的微粒的被加压了的处理液向基板的主面供给的冰浆供给装置。
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