[发明专利]防止由阻挡处理对光学元件的污染的方法和设备有效
| 申请号： | 200610024531.X | 申请日： | 2006-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN101034261A | 公开（公告）日： | 2007-09-12 |
| 发明（设计）人： | 陈钦裕;张旭升;林世鸿;唐正隆 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐谦;杨红梅 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种消除用于集成电路器件制造的光刻工艺中的污染物的方法和设备。该方法包括将光阻材料沉积在半导体基片的表面上。净化气流被紧靠光学元件提供以防止来自曝光的光阻材料的蒸汽与所述光学元件进行接触。在一个实施例中，净化气体流入穿孔和开端的封装中，在所述封装中光学元件以透镜形式提供。所述封装的一个开端耦合到所述透镜而另一开端定位于半导体基片的表面之上。所述封装的穿孔促进净化气体到其的运动，消除了与来自经显影的阻挡的蒸汽相接触以及不希望的固体污染沉积在透镜上。 | ||
| 搜索关键词： | 防止 阻挡 处理 光学 元件 污染 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理基片的设备，该设备包括：工艺室，配置成支持其中的基片；光源；光学元件，与所述光源进行光学通信并配置成使所述基片的所选区域曝光于来自所述光源的辐射；以及气体递送系统，配置成使紧靠所述光学元件的气体流动以便使所述光学元件与在处理步骤期间存在的蒸汽相隔离。
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