[发明专利]用于投影曝光装置中的自动位置对准装置和位置对准方法

摘要

本发明公开了一种用于投影曝光装置中将掩模和曝光对象进行精确位置对准的自动位置对准装置和位置对准方法。该自动对准装置包括掩模位置对准装置、曝光对象位置对准装置和总控制装置，总控制装置与投影曝光装置的承版台运动控制装置和承片台运动控制装置相连。本发明通过采用掩模位置对准装置，建立掩模标记和承片台之间的相对位置关系；曝光对象位置对准装置，建立曝光对象标记和承片台之间的相对位置关系；总控制装置对各系统部件做统一控制，控制对准装置按着对准流程工作，并对相关数据进行运算，得到对准结果；从而实现掩模和曝光对象之间的高精度位置对准。具有对准过程简单、对准精度高等优点。

主权项

1.一种用于投影曝光装置的自动位置对准装置，其特征在于，包括掩模位置对准装置、曝光对象位置对准装置(5)和总控制装置(14)，总控制装置(14)与投影曝光装置的承版台运动控制装置(12)和承片台运动控制装置(13)相连；所述掩模位置对准装置包括：掩模标记照明系统(3)，其设置在承片台(10)内；同轴对准基准标记照明系统(4)，其设置在承片台(10)内；光路结构相同的同轴对准成像系统(1)和(2)，其设置在掩模版(8)上方，掩模电路图形(44)外侧，且以光学投影系统(9)的物方视场为中心左右对称；掩模标记(16)和(18)、其设于掩模版(8)上且掩模标记一侧设有通光窗口(15)和(17)；同轴对准基准标记(23)，其设于承片台(10)上，同轴对准基准标记(23)一侧设有掩模标记照明通光窗口(22)；所述曝光对象位置对准装置(5)，设置在光学投影系统的一侧，其包括：离轴对准照明系统；离轴对准成像系统；离轴对准基准标记(24)，其设于承片台对准基准版(21)上，且承片台对准基准版(21)固定于承片台(10)上；曝光对象标记(19)和(20)，其设于曝光对象(11)上。